15. 37单元双压电片变形镜板条激光光束净化

　　摘要：为了校正板条激光器输出光束波前像差，改善输出光束质量，提出了基于37单元双压电片变形镜的板条激光光束净化系统。采用柱面反射式单向扩束器使主振荡功率放大结构板条激光器输出光束尺寸与37单元双压电片变形镜有效口径相匹配，利用随机并行梯度下降算法控制双压电片变形镜面形，进行波前像差闭环校正，校正后光束远场归一化桶中功率提高到净化前的2～3倍。

　　作者： 晏虎，雷翔，刘文劲，王帅，高源，董理治，杨平，许冰

　　16. 倾斜相差对光纤激光相干合成的影响与模拟校正

　　摘要：选取不同路数和不同填充因子的合成光束模型，模拟并分析了倾斜相差对相干合成的影响.介绍了倾斜校正的关键器件——自适应光纤光源准直器。在主振荡功率放大器结构的光纤激光相干合成系统中，模拟了随机并行梯度下降(SPGD)算法校正七路激光阵列间时变倾斜相差的动态过程，分析了不同倾斜相差幅值和频率对校正能力的影响。实验表明，要提高相干合成的效果，必须校正倾斜相差；而SPGD算法校正倾斜相差的能力随着倾斜相差幅值和频率的增加而降低.文章为在实际大气环境中实现多路高功率光纤激光的相干合成提供了参考.

　　作者： 耿超；李新阳；张小军；饶长辉

　　17. 一种数字光栅无掩模光刻对准方法

　　摘要：针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统，提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法，将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型，设计了对准标记以及具体的实现方案，并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明，采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅，真正实现了零掩模成本；并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围，减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度，满足目前无掩模光刻对准精度的要求。

　　作者： 唐路路，胡松，徐峰，唐燕，陈铭勇，朱江平

　　18. 一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法

　　摘要：针对数字投影光刻技术大面积图形曝光的需求，提出了一种基于灰度模板调制的图形拼接方法，包括图形分割、模板设计、子图形灰度调制、子图形曝光4个步骤。图形曝光前，需要将曝光图形分割为多帧大小为1024pixel×768pixel的多个子图形，然后每个子图形与对应模板相乘，实现曝光子图形的预处理。基于数字微镜(DMD)对灰度图形的调制原理，设计了可行的边界灰度调制模板。给出了图形分割的基本方法以及模板设计的原则。计算机仿真实验展示了图形拼接的过程。实验结果表明，该方法能较好地解决大面积图形曝光存在的拼接问题，改善了图形刻蚀的质量。

　　作者： 朱江平，胡松，于军胜，陈铭勇，何渝，刘旗

　　19. 光子筛成像技术研究进展

　　摘要：光子筛是一种新型的纳米成像元件，具有高分辨、质量轻、体积小及易复制的优点，对于成像系统轻量化以及极短波谱区成像具有重要意义。根据解决的具体问题对国内外光子筛研究成果进行分类，从成像对比度的增加、衍射效率的提高、宽光谱成像和高数值孔径光子筛设计等方面详细介绍了光子筛的发展现状，并针对这四方面研究内容分析了目前尚需解决的技术问题。这些问题仍然是今后光子筛研究的主要方向。指出光子筛实用化面临的其他客观存在的问题，并展望了光子筛在天文望远镜、显微镜和光刻等领域的应用前景。

　　20. 光子筛透镜组合的折衍混合消色差系统设计

　　摘要：光子筛作为一种衍射光学元件，具有较大的色散，不适用于宽光谱成像。光子筛的焦距随着入射波长的增大而减小，而正的折射透镜焦距随着入射波长的增大而增大。应用了折衍混合方法进行光子筛消色差的设计。该设计利用二者相反的色散特性，在光子筛的一侧紧密放置一平凸透镜，从而实现光子筛的消色差设计。并针对可见光光谱进行了设计，分析表明该方法能够实现消色差，且具有一定校正二级光谱的能力，消色差波长与中心波长处焦距相对误差为0.33%，成像光谱带宽为20 nm。与普通单个光子筛相比，该方法有效拓宽了光子筛的成像光谱范围。与使用波带片的折衍混合系统相比，聚焦光斑更小。

　　作者： 何渝，赵立新，唐燕，陈铭勇，朱江平