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干涉测量法加快了表面粗糙度的分析

表面粗糙度是表征半导体材料质量的重要参数,但很少是定量测量的。这是因为,如果我们简化了仅在大规模硅器件生产线上应用的、价格高昂的完全自动化系统,那么,通常用于定量分析的原子力显微镜(AFM)技术就很难适合生产环境。通常的解决方法是:要么用定性的方法如Nomarski干涉显微方法对质量做出评估,要么用光学散射测量方法做出推断。

光学仪器设备 | 2007-01-20 11:40 评论

中科院院士:我国光学研究未领先

业界消息,中科院院士最近发表观点,认为我国光学实际上并不差,我们所需要的基本事情自己能解决了。不管军事上的,国家层面的需要,我们基本上能自己做,但不是领先。从产业方面来看,现在什么都要买人家的,从这个意义上来说是落后的。比如说数码相机,虽然国内能国产,但里面的专利用的是别的国家的专利

光学仪器设备 | 2006-11-14 11:35 评论

德国光学技术贸易博览会Optatec 2006

支持媒体:展会内容:展品内容:光学薄膜技术、光学元器件加工、彩色测量装置、光学组件,材料和装置、光学加工组件和设备、光电组件和设备、光纤光导技术、光纤、光缆、光缆配件、钎纬光导、光导、电缆加工设备和测量设备

光学仪器设备 | 2006-08-25 10:56 评论
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