OFweek光学网 >
新闻中心
干涉测量法加快了表面粗糙度的分析
表面粗糙度是表征半导体材料质量的重要参数，但很少是定量测量的。这是因为，如果我们简化了仅在大规模硅器件生产线上应用的、价格高昂的完全自动化系统，那么，通常用于定量分析的原子力显微镜（AFM）技术就很难适合生产环境。通常的解决方法是：要么用定性的方法如Nomarski干涉显微方法对质量做出评估，要么用光学散射测量方法做出推断。
中科院院士：我国光学研究未领先
业界消息，中科院院士最近发表观点，认为我国光学实际上并不差，我们所需要的基本事情自己能解决了。不管军事上的，国家层面的需要，我们基本上能自己做，但不是领先。从产业方面来看，现在什么都要买人家的，从这个意义上来说是落后的。比如说数码相机，虽然国内能国产，但里面的专利用的是别的国家的专利
德国光学技术贸易博览会Optatec 2006
支持媒体:展会内容：展品内容：光学薄膜技术、光学元器件加工、彩色测量装置、光学组件，材料和装置、光学加工组件和设备、光电组件和设备、光纤光导技术、光纤、光缆、光缆配件、钎纬光导、光导、电缆加工设备和测量设备
资讯订阅
最新活动
更多 >>
一周热点
技术文库
更多 >>
-
基于激光焊缝跟踪传感器的工业机器人焊缝跟踪系统的优缺点2021-02-19
-
助力新基建丨FETA40i-C在特高压输电线在线监测中的应用
2021-01-28
-
行业前沿丨融合ETC——智慧停车技术再升级！
2021-01-21
-
消防水鹤监测系统方案
2021-01-07
-
手机需要点胶的原因
2020-12-23
-
什么是颜色传感器？什么是色标传感器？两者区别
2020-12-21
