全新光斑聚焦技术诞生，电子产品新材料成像分辨率突破6nm！

2021-12-03 13:53

下一代电子产品新材料的发展日新月异，但其应用仍受到诸多瓶颈的限制，其成像和观测便是一大难点。

幸运的是，加州大学河滨分校(University of California Riverside)的研究人员们成功开发出一种探头，可以将灯光压缩成纳米大小的光斑，用于成像电子产品新材料中的微结构与细节。

他们表示，这一“革命性的成像技术”将彩色成像的分辨率提高到了前所未有的6nm水平，可以帮助科学家看到纳米材料的清晰细节，从而让这些纳米材料在电子和其他应用中进一步大展身手。

据介绍，在光学显微镜下，碳纳米管看起来是灰色的。传统的范围无法区分细微的细节和单个纳米材料之间的差异，这使得科学家很难研究它们的独特性质，并找到完善它们的工业用途的方法。

而UCR研发出来的技术，已在此前的工作中用于观察分子键在1纳米空间分辨率下的振动，而不需要任何聚焦透镜。

在最新的进展中，UCR的科学家们还改进了工具来测量跨越整个可见波长范围的信号，这可以用来渲染颜色和描述物体的电子带结构，而不仅仅是分子振动。

基于最新的这项技术进展，原本是灰色的碳纳米管，却在成像过程中诞生了第一张彩色照片。

研究人员希望，这项新技术可以成为一种重要工具，帮助半导体行业制造具有一致性能的用于电子设备的均匀纳米材料。新的全彩纳米成像技术，也可以用于提高对催化、量子光学和纳米电子学的理解。

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