2、突出贡献

　　何赛灵来到浙江大学，其意义绝非仅仅在于一个人，更重要的是带来了一个群体。他把原先所有与自己有联系的国际知名专家学者（来自加拿大、美国、瑞典、日本、俄罗斯、台湾等地），都以合理的方式邀请过来，到中心讲学、指导，形成一个完整而又强大的知识群和开放式的研究体系，在中心生根、发芽、开花。

　　长期保持国际交流与合作， 关注国际学术前沿的发展。促成了瑞典皇家工学院与浙江大学建立的姊妹大学关系，开展了联合培养研究生和博士后的交流，通过踏踏实实搞学术以及与瑞典皇家工学院等国际一流大学的合作，目标使研究中心在10年内在光子技术方面进入世界一流行列。

　　在长江计划特聘教授何赛灵的带领下，光电中心发展迅速，现已有教职员工约20人，其中教授3名、兼职/客座教授（外籍）6 名、副教授10多名（外籍3 名）。中心在光子学和电磁波的理论和实验研究领域开展了大量工作并获得了许多具有国际影响的学术成果。

　　目前有超常人工电磁介质与应用、光集成技术、微波光子学等八个研究小组，承担着一项以何赛灵教授为首席科学家的973计划项目、多项国家自然科学基金项目、863 计划项目、国际合作项目、省市科技计划项目和教育厅项目等。2007年光电中心在IEEE，OSA，APS及AIP的期刊上发表了44篇论文。

　　光电中心的发展，寄托了何赛灵教授的无尽希望。1999年何赛灵受“ 长江学者奖励计划” 特聘从瑞典回国，在浙江大学的支持下创立了光及电磁波研究中心。在何赛灵和整个团队的努力下，中心发展得越来越好，有了自己的实验大楼和超净室，与瑞典皇家工学院和香港中文大学建立了联合研究中心和实验室，并与国内外许多大学和公司保持着密切的交流合作。

　　3、研究方向

　　光电中心现有8 个研究方向，其中包括超常人工电磁介质与应用、光集成技术、电磁波及其应用、微波光子学、生物光子学、光学传感技术、激光与信号处理和光网络技术八个研究小组，分别承担着不同方向的研究项目。

　　3.1、光集成技术

　　光集成技术课题组目前主要从事新型硅基光子集成器件及在光通信、光传感以及光互连等方面的应用研究。时尧成等利用干法刻蚀迟滞效应，实现了一种超小型的方向耦合器。通常在干法刻蚀过程中的迟滞效应对器件的性能将产生负面的影响，是需要通过调整工艺条件等尽量避免的。而这个新方法，对这种时刻迟滞效应进行了积极利用，通过控制刻蚀时间，只需要一次刻蚀（避免套刻等复杂工艺）就可以实现方向耦合器的耦合区只刻蚀到InGaAsP 层的一部分，而其他区域则已经完全刻蚀穿了InGaAsP 层，这样可以大大减小方向耦合器的尺寸。 为制作的方向耦合器的扫描电镜照片。当波导芯层不被完全刻蚀，即存在刻蚀迟延效应时，能量很容易在组成方向耦合器的波导间转移，整个方向耦合器的长度可从1600μm 减小到50μm 左右（Opt. Lett 2008， 33，1927）。