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NILT打造出多元光学元件镜头,绝对效率达到94%

日前,光学解决方案公司NIL Technology (NILT)最新透露,他们已经设计、制造出多元光学元件(MOE)镜头,其绝对效率达到了94%。

据悉,本次演示中展示的是940nm的近红外镜头,最新带来的结果被认为是超透镜(metalenses)商业化应用的一个重要里程碑,不久后即将投入批量生产并交付。

NILT补充称,这些透镜已经准备好交付和批量生产,它们可以设计为搭载完整相位功能的模式。此外,多MOE堆叠组件可以设计为所需的规格。该公司表示,MOE本身是由玻璃基板上的硅制成的,这使其坚固、刚性、可靠和热稳定性。它可以实现近红外和SWIR波段的定制波长。

MOE生产的整个过程,从设计、原型、组装、量产都是在内部完成的。大规模生产是通过纳米压印光刻技术完成的,与半导体工艺不同,纳米压印光刻技术不限制元原子的几何形状,如尺寸、形状和位置。

这确保了基于当前设计技术的最佳性能MOE和更大的创新自由。此外,纳米压印光刻工艺使NILT能够大规模生产,而无需依赖资本密集型设备,如深UV光刻系统。

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