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光学薄膜材料

2012-08-14 11:32
Timeless落尘
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  2.利用光波干涉原理,在镜片的表面镀上一层薄膜,厚度为1/4波长的光学厚度,使光线不再只被玻璃-空气界面反射,而是空气-薄膜、薄膜-玻璃二个界面反射,因此产生干涉现象,可使反射光减少。若镀二层的抗反射膜,使反射率更低,但是镀一层或二层都有缺点:低反射率的波带不移宽,不能在可见光范围都达到低反射率。1961年Cox、Hass和Thelen三位首先发表以1/4一1/2一1/4波长光学厚度作三层抗反射膜可以得到宽波带低反射率的抗反射膜。多层抗反射膜除了宽波带的,也可做到窄波带的。也就是针对其一波长如氨氟雷射632.8nm波长,要求极高的透射,可使63Z.8nm这一波长透射率高达99.8%以上,用之於雷射仪器。但若需要对某一波长的光线有看极高的反射率需要用高低不同折射系数的材料反覆蒸镀数十层才可达到此效果。

  光学薄膜的制造方式:热电阻式、电子枪式和溅射方式。最普通的方式为热电阻式,是将蒸镀材料在真空蒸镀机内置於电阻丝或片上,在高真空的情况下,加热使材料成为蒸气,直接镀於镜片上。由於有许多高熔点的材料,不易使用此种方式使之熔化、蒸镀。而以电子枪改进此缺点,其方法是以高压电子束直接打击材料,由於能量集中可以蒸镀高熔点的材料。另一方式为溅射方式,是以高压使惰性气体离子化,打击材料使之直接溅射至镜片,以此方式所作薄漠的附著力最好

  应用及市场前景:

  光电信息产业中最有发展前景的通讯、显示和存储三大类产品都离不开光学薄膜,如投影机、背投影电视机、数码照相机、摄像机、DVD,以及光通讯中的DWDM、GFF滤光片等,光学薄膜的性能在很大程度上决定了这些产品的最终性能。光学薄膜正在突破传统的范畴,越来越广泛地渗透到从空间探测器、集成电路、生物芯片、激光器件、液晶显示到集成光学等各学科领域中,对科学技术的进步和全球经济的发展都起着重要的作用,研究光学薄膜物理特性及其技术已构成现代科技的一个分支--薄膜光学。光学薄膜技术水平已成为衡量一个国家光电信息等高新技术产业科技发展水平的关键技术之一。
 

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