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道明光学获反光膜新专利

2011-12-15 09:47
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  道明光学12月14日晚间公告称,公司于近期收到国家知识产权局颁发的一项发明专利证书,专利名称为具有微棱镜阵列结构的反光膜的生产方法。专利期限为20年。

  公司表示,上述发明专利的取得有利于完善公司的技术储备,进一步强化公司的自主知识产权优势,形成持续创新机制,提升公司核心竞争能力。

 

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