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尼康:超紫外光刻设备研发计划仍在进行

2009-05-25 10:23
潇纵
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        针对某位分析师的质疑,日本尼康公司强调其超紫外(EUV)光刻设备研发计划仍在持续有效地进行。

        根据尼康(东京)官方人士表示,公司并没有将其超紫外(EUV)光刻设备研发计划延期。日本野村证券(securities house Nomura)行业专家Richard Windsor认为,尼康已经暂时搁置开发其某些EUV设备,从而可能让ASML Holding NV公司在对这项新兴芯片制造技术进行商业部署时抢得先机。

        尼康驳回了这一报告。“我们不会搁浅我们的EUV研发计划,”尼康官方人士表示。“我们仍在全速前进”。

        尼康有两款命名为EUV1的EUV alpha设备,其中一套安装在Selete(公司名)。另一套在日本,为英特尔公司所使用。尼康正在着手开发第二版EUV设备---- EUV2,这是一个预生产单元。尼康不打算面向客户推出这一产品,而是将其用做内部使用,以实现加速客户的学习过程。

        与此相反,ASML公司计划为客户端推出其“预生产”EUV工具。

        据尼康表示,尼康正在开发一款值得投产的设备---EUV3。与Nomura不同, EUV3已经走上正轨并且计划于2012年发布。尼康公司表示,“所以,我们不会推出EUV2;我们将与客户一共改进尼康的设备”。“尼康仍计划在2012年对EUV3进行量产。”
 

(编辑:曾聪)

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