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NIF清洗设备及工艺

导读: 报道了国家点火装置上的清洗设备及工艺,文章全面描述了应用于国家点火装置(NIF)的各类硬件和光学元件的清洗过程、处理方法、设施和清洁验证程序。

  6.2有机物检测

  通过用有机溶剂冲洗表面,可以测试被测部件表面非挥发性残留物(极NVRs)(图26)。有机物蒸发后对剩余干燥残渣进行称重。NIF超精密的清洁要求为1毫克/1平方米(≤0.1mg/平方英尺IEST-STD-CC1246D/10)。

  图26NVRs验证

  图27溶胶凝胶薄膜样品

  对于挥发性有机化合物(VOCS),采用双面制备多孔二氧化硅的溶胶-凝胶陪镀元件进行测试。挥发性的有机化合物很容易吸附在溶胶-凝胶涂薄膜内部,从而造成薄膜透射率下降,通过与元件正常使用状态下(即真空或1atm空气或氩气)透射率测试对比,可以获得挥发性有机物污染状况,验收标准是透射率损失≤0.1%。

  6.3颗粒物检测

  非光学元件表面颗粒物检验使用一种颗粒刷,类似于“白色手套测试”方法,随后使用一个自动化的电光仪器自动计数,获得颗粒物情况,精密的清洁要求是每IEST-STD-CC1246D≤83级(图28)。

  图28颗粒物检查

  图29光学元件表面强光灯检查

  图30金属件表面强光灯检查

  对于光学元件表面,采用“强光”检查(图29),可以观测到10μm以上的颗粒物残留,精密清洁要求为每IEST-STD-CC1246D≤50级(5个/平方英尺。强光灯光检查也用于非光学元件表面颗粒物检查(图30),另外,对于元件表面的擦痕检查特别有效。

  7.结论

  全面描述了应用于国家点火装置(NIF)的各类硬件和光学元件的清洗过程、处理方法、设施和清洁度验证程序。

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