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NIF清洗设备及工艺

导读: 报道了国家点火装置上的清洗设备及工艺,文章全面描述了应用于国家点火装置(NIF)的各类硬件和光学元件的清洗过程、处理方法、设施和清洁验证程序。

  3.光学元件清洗

  3.1概述

  NIF依靠大量的清洁步骤清洁光学元件,其中一些使用洗涤剂/溶液解决方案,一些使用有机溶剂用于小尺寸光学元件清洗。该类清洗工艺在光学元件镀膜时广泛使用。

  3.2大尺寸光学元件清洗

  大口径元件清洗包括以下几个过程:

  在制备减反射的溶胶凝胶膜层之前,频率转换晶体使用甲苯溶液进行超声及喷淋操作(KDP晶体遇水潮解)(图14)。

  图14使用丙酮对晶体元件进行清洗

  钕玻璃使用去离子水进行手工或喷淋清洗,用于去除玻璃表面的颗粒污染物。由于钕玻璃供应商提供的钕玻璃进行了非常严格清洗过程,钕玻璃表面的污染物残留并不严重(图15)。

  图15钕玻璃元件清洗

  反射镜使用清洁剂进行手工清洗,随后使用去离子水冲洗(图16)。

  图16使用清洗剂进行薄膜元件表面清洗

  在制备减反射的溶胶凝胶膜层之前,熔石英基片使用氢氧化钠溶液进行清洗,随后使用洗涤剂及去离子水反复清洗(图17)。

  图17使用氢氧化钠进行熔石英元件表面清洗

  3.3小口径光学元件清洗

  NIF小口径元件在安装之前经常使用超纯压缩空气或氮气进行元件表面吸附颗粒物吹除(图18),通常情况下,使用去离子风机去除元件表面静电。对于顽固的吸附颗粒物或残余污染物,使用聚酯或聚酯/纤维布蘸取超纯有机溶剂擦拭(异丙醇、乙醇、丙酮或两者组合)(图19)。

  图18使用干燥洁净氮气清除元件表面颗粒污染物

  图19光学元件表面有机溶剂擦拭

  3.4光学元件包装

  无论是大尺寸还是小尺寸光学元件,均使用超低放气特性的硬质PET-G(polyethyleneterephthalate–glycolmodified)(图20),另外,对于大口径光学元件,经常充入干燥的氮气,且使用洁净胶带进行密封。

  图20光学元件洁净包装盒

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